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液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn)

簡(jiǎn)要描述:液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn):
PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容
第一部分:維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄
A.氣體檢查、真空檢查;
B.Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
C.Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄;
D.PPGMS/MS測(cè)試;
E.Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;
F.Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;

  • 產(chǎn)品型號(hào):AB SCIEX
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2025-04-10
  • 訪  問  量:2010

詳細(xì)介紹

液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn)介紹

液質(zhì)聯(lián)用儀專業(yè)培訓(xùn)PM項(xiàng)目服務(wù)內(nèi)容  

第一部分:維護(hù)前數(shù)據(jù)記錄

A.氣體檢查、真空檢查;

B.Q1正離子模式數(shù)據(jù)記錄;

C.Q3正離子模式數(shù)據(jù)記錄;

D.PPGMS/MS測(cè)試;

E.Q1負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;

F.Q3負(fù)離子模式數(shù)據(jù)記錄;

第二部分:維護(hù)過程部分

A.檢查儀器的輸入電壓是否正常;

B.檢查儀器所有的輸入氣體壓力是否正常;

C.檢查離子源各個(gè)接頭是否有堵塞或漏液情況,并通過超聲波清洗兩通接頭和噴霧出口部分;

D.檢查離子源是否有漏氣情況;

E.檢查離子源內(nèi)PEEK管,發(fā)現(xiàn)堵塞時(shí)更換,清洗離子源流路;

F.分別在正負(fù)離子模式下檢查離子源高壓是否正常,清洗離子源內(nèi)壁;

G.分別在正負(fù)離子模式下檢查L(zhǎng)ENS電路板上各個(gè)測(cè)試點(diǎn)的電壓是否正常;

H.檢查并優(yōu)化檢測(cè)器電壓;

I.根據(jù)維護(hù)前做的測(cè)試實(shí)驗(yàn),停機(jī)清洗LINAC,Q1和Q3,清洗接口部分(interface,Oriface內(nèi)部,Qjet,curtainplate)和四極桿;

J.檢查機(jī)械泵,清洗機(jī)械泵濾網(wǎng);

K.檢查空氣過濾網(wǎng),堵塞時(shí)更換;

L.用壓縮空氣吹洗儀器內(nèi)部的灰塵,消除潛在的故障隱患;

M.檢查操作儀器的工作站,清除不必要的程序并壓縮整理磁盤;

第三部分維護(hù)后實(shí)驗(yàn)結(jié)果和記錄

A.實(shí)驗(yàn)前檢查儀器真空度是否正常,調(diào)節(jié)RF;

B.調(diào)節(jié)優(yōu)化離子源參數(shù),用標(biāo)準(zhǔn)品分別做Q1、Q3正負(fù)離子模式下實(shí)驗(yàn),記錄實(shí)驗(yàn)結(jié)果;    

第四部分本次維護(hù)保養(yǎng)總結(jié)

A.清洗離子源、curtainplate、orificeplate、skimmer、Q0、Q1、Q3。

B.電路板除塵,儀器清灰。

C.測(cè)試LENS電壓,電壓值均符合要求。

D.調(diào)試Q1、Q3正負(fù)離子模式PPG信號(hào)  



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